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使用 Agilent 7900 ICP-MS 測定鋼鐵中 的痕量元素

監測和控制金屬及合金中痕量雜質元素的含量十分重要，因為雜質會影響金屬的特性，還有可能降低最終元件的功能性。 ICP-OES 常用于對金屬樣品中的痕量元素進行常規測量，因為該技術具有多元素分析能力，并且對金屬樣品消解物中存在的高基質水平具有耐受性。然而，開發高純度金屬和更高性能合金需要對更廣泛更低濃度的痕量元素實現更嚴格的控制，因此需要一種檢測限優于 ICP-OES 的技術。ICP-MS 為目標元素提供了較低的檢測限，但是該技術之前被認為不適合用于分析類似金屬消解物等高基質品，例如，傳統 ICP-MS 儀器可能由于接口錐中的基質沉積而產生信號抑制和器可能由于接口錐中的基質沉積而產生信號抑制和/或長期信號漂移，這影響了信號的穩定性和分析結果的準確度。為克服這一局限性，安捷倫開發出超高基質進樣 (UHMI) 氣溶膠稀釋技術，使 Agilent7900 ICP-MS 能夠測量包含更高總溶解態固體 (TDS) 含量的樣品。

UHMI 包含改良的帶有氣體端口的連接管，能夠將精確校正流速的氬氣流引入霧化室和炬管之間。增加氣體流量稀釋樣品氣溶膠，減少了等離子體上的氣溶膠和基質的載入量，從而對基質水平較高的樣品進行分析，且不發生基質沉積或信號漂移。UHMI 進一步的顯著優勢在于，穩定性更高的等離子體減少了信號抑制，確保分析物和內標 (ISTD) 的信號在各種基質水平下更加一致。這意味著通常可使用簡單的水溶性標準品，且標準品基質無需與樣品的主要元素組成相匹配。UHMI 將 ICP-MS 的適用范圍擴展至高基質土壤樣品 [1] 和鹽基質溶液的測量等應用 [2]。本研究使用配備 UHMI 的 Agilent 7900 ICP-MS 開發出一種準確測定鋼鐵樣品中痕量元素的方法，該樣品按照標準方法進行消解，所得溶液中包含 0.5% TDS。本研究的目的是參考 ASTM International 和日本工業標準(JIS) 的方法中對于鋼鐵分析的要求，對這種用于分析消解鋼鐵樣品的新 ICP-MS 方法的分析性能和穩定性進行評估。

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